06年2月20日，IBM位于加州的Almaden实验室，利用深度紫外线激光刻印技术DUV，制造出了全球目前最小的电路模点，该点的宽度是29.9纳米，仅相当于目前芯片厂在用的最小刻度制作技术的三分之一。一纳米相当于一百万分之一米。
29.9纳米芯片制造技术是在IBM Nemo工具下开发出来的，IBM Nemo芯片开发工具由IBM和JSR公司联合研制。
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06年2月20日，IBM位于加州的Almaden实验室，利用深度紫外线激光刻印技术DUV，制造出了全球目前最小的电路模点，该点的宽度是29.9纳米，仅相当于目前芯片厂在用的最小刻度制作技术的三分之一。一纳米相当于一百万分之一米。
29.9纳米芯片制造技术是在IBM Nemo工具下开发出来的，IBM Nemo芯片开发工具由IBM和JSR公司联合研制。
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